- 合并后分拆出一家獨立公司，重點發(fā)展納米技術市場機遇

得克薩斯州奧斯汀2014年2月14日電 /美通社/ -- 納米圖案成形系統與解決方案的市場與技術領導者 Molecular Imprints Inc. (MII) 今天宣布已簽約將半導體壓印光刻設備業(yè)務出售給日本東京的佳能 (Canon Inc.)。佳能目前生產并銷售 KrF 準分子和i線照明光學光刻平臺。為打入尖端高分辨率圖案成形光刻設備市場，佳能2004年開始研究納米壓印技術。自2009年以來，該公司一直與 MII 及一家量產型半導體制造商攜手采用 MII 的 Jet and Flash? 壓印光刻 (J-FIL?) 技術來進行開發(fā)。

（圖標：http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO ）

Molecular Imprints 首席執(zhí)行官 Mark Melliar-Smith 表示：“四年前我們與佳能共結商業(yè)聯盟以向半導體行業(yè)提供技術主導型的低成本納米光刻解決方案，我很高興如今我們在追求這一目標上取得了巨大進步。在此成功的基礎上，雙方合并是自然而然的。”

2011年，佳能進入其“全球優(yōu)良企業(yè)計劃”(Excellent Global Corporation Plan) 的第四階段，該計劃的其中一項戰(zhàn)略是通過全球多元化來實現業(yè)務發(fā)展。佳能首席技術官 Toshiaki Ikoma 博士說：“收購 MII 將加強我們的‘工業(yè)及其他’業(yè)務部門。由此帶來的創(chuàng)新半導體制造機會讓我們感到非常興奮，我們期待在得克薩斯州奧斯汀建設出先進的技術開發(fā)能力。”

得克薩斯大學奧斯汀分校的 SV Sreenivasan 和 Grant Willson 兩位教授所研發(fā)的技術為 Molecular Imprints 創(chuàng)立之初的開疆辟土奠定了基礎。過去幾年中，Molecular Imprints 一直與佳能及其他半導體行業(yè)基礎設施合作伙伴攜手讓整個行業(yè)繼續(xù)依照摩爾定律的指導方向，沖破分辨率的限制，同時避免光學和極紫外線 (EUV) 光刻成本負擔的加重。最初用于生產的 J-FIL 技術計劃在未來兩年內用于高級閃存。

佳能將把 J-FIL 運用到先進半導體制造中，與此同時，該合并協議還允許分拆出一家新公司，保留原來的“Molecular Imprints”名稱，而與佳能共同擁有的關鍵人才和權利也能保留在 MII 的知識產權組合中，再加上多個系統平臺能夠支持消費電子和生物醫(yī)學應用對納米級圖案成形不斷加大的需求，這些都形成了搶占領先地位的優(yōu)勢。Molecular Imprints 首席運營官大衛(wèi)-吉諾 (David Gino) 稱：“我們期待為顯示器、硬盤驅動器，生物技術和其他新興市場帶來低成本納米級制造解決方案。”在與佳能的合并協議完成之前，新的 Molecular Imprints 將被分拆出來，吉諾先生則將擔任這家新公司的首席執(zhí)行官。

此項合并預計于2014年4月完成，須獲股東及政府批準。